紫外光电子能谱(UPS)

仪器型号: Thermo ESCALAB 250XI、PHI5000 VersaProbe III等
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项目介绍

紫外光电子能谱UPS(ultraviolet photo-electron spectroscopy)以紫外线为激发光源的光电子能谱。激发源的光子能量较低,该光子产生于激发原子或离子的退激,最常用的低能光子源为氦Ⅰ和氦Ⅱ。紫外光电子能谱主要用于考察气相原子、分子以及吸附分子的价电子结构。

UPS用于测定导体或半导体材料的功函数价带顶。

结果展示

测试结果一般给出的是excel等格式的原始数据。

样品要求

1. 块体样品要求平整,干净,导电性好,尺寸必须大于5*5mm-小于10*10mm左右,厚度小于2mm;粉末样品优先选择旋涂法,基材材质为ITO、FTO、单晶硅片等半导体材料,且表面导电性连续,不能使用刻蚀后基材制样,尺寸必须大于5*5mm-小于等于10*10mm左右,厚度小于2mm,薄膜尽可能做的较薄,涂完膜干燥后能看到薄薄一层样品即可。

2.粉体样品需要制备为薄膜,参考制备方法及要求如下:先把粉末(粉末颗粒直径最好在1万目以下)样品分散在水或乙醇里(浓度尽量低点),旋涂滴在ITO上烘干,可以多循环几次,一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁,ITO尺寸必须大于5*5mm-小于10*10mm左右,涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住ITO即可(膜层厚度10-50nm即可),膜层的电阻最好小于10千欧,最大不能超过30千欧。


常见问题
测试结果为什么跟文献或者预期有偏差?

第一,由于UPS测量中光激发电子的动能在0-20eV范围,在此能量区间的电子逃逸深度较小,且随能量急剧变化,材料表面的导电性、污染程度和粗糙度等因素会对测量结果产生较大影响,轻则导致谱图的峰位移动和峰形变化,重则导致无信号。UPS适用于分析表面均匀洁净的导体以及导电性较好的半导体薄膜材料。对于合成的粉末样品,影响因素较多,UPS测试存在一定风险 ; 第二,UPS测试过程中,紫外光的扫描范围仅为样品中的某个微小区域,如果样品制备不均匀,或者测试区域恰好条件不佳,也可能会影响测试结果;

测试老师给出的数据分析结果准确吗,是否可以调整?

测试老师给出的只是分析结果仅供参考,因为测试老师不知道每个样品具体是什么材料,只能根据自己的习惯和经验大致作图分析,所以我们一般还需要根据对样品性质的了解,对数据分析结果微调甚至大的调整。

UPS是否需要清洁表面

因UPS采集信息较浅,若样品表面容易变质, 可清洁掉表面材料(一般10nm内),测试清洁后的样品表面。

偏压和无偏压的数据分别时候时候用?

①无偏压模式:验证样品导电性、测定价带顶;

②偏压模式:测定功函数、价带顶,验证半导体类型(P型/N型)。


XPS和UPS在测试上的异同